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中微公司迎第3000臺(tái)CCP刻蝕設(shè)備反應(yīng)腔付運(yùn)里程碑

發(fā)布時(shí)間：2024-04-23 11:55 編輯：王鑫 來源：互聯(lián)網(wǎng)
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中微公司迎第3000臺(tái)CCP刻蝕設(shè)備反應(yīng)腔付運(yùn)里程碑，4月23日訊，近日，中微半導(dǎo)體設(shè)備股份有限公司的電容耦合等離子體刻蝕設(shè)備第3000臺(tái)反應(yīng)腔順利付運(yùn)國(guó)內(nèi)一家先進(jìn)的半導(dǎo)體芯片制造商。

中微公司迎第3000臺(tái)CCP刻蝕設(shè)備反應(yīng)腔付運(yùn)里程碑，4月23日訊，近日，中微半導(dǎo)體設(shè)備股份有限公司的電容耦合等離子體刻蝕設(shè)備第3000臺(tái)反應(yīng)腔順利付運(yùn)國(guó)內(nèi)一家先進(jìn)的半導(dǎo)體芯片制造商。

備注：數(shù)據(jù)僅供參考，不作為投資依據(jù)。

關(guān)鍵詞 刻蝕 等離子體 設(shè)備
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